光刻机制造瓶颈在哪里？
很多人都说光刻机的制造难度超越了原子弹，这绝不是夸张的。荷兰ASML 生产的EUV光刻机光刻机是干什么用的？—制造芯片的设备；光刻机的原理是什么呢？—简单的来说就是冲洗照片，不同的是洗照片是把底片放大，光刻机是把底片缩小；洗个照片为什么这么难呢？举个例子：在A4纸上画电路图，你会觉得简单；在邮票上画，你会觉得困难；在大米粒上雕刻呢？你觉得难上加难；如果把这粒米固定在汽车挡风玻璃上，你在另一辆汽车上雕刻，而且两辆车的车速不能低于100迈，你有什么感觉呢？是不是崩溃了？这就是光刻机的难度，而且仅仅是一部分。
我们一起来看看光刻机的制造瓶颈有哪些吧！首先来介绍一下光刻机光刻机又名曝光机，是生产大规模集成电路的关键设备，将电路结构临时"复制"到涂有光刻胶硅片上的过程，制造和维护需要高度的光学和精密制造技术。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。很多媒体都说：如果半导体是人类工业史上的一顶皇冠，那么光刻机就是这顶皇冠上的明珠。
对于这种夸张的描述，不做否认。但是并不是所有的光刻机都是皇冠上的明珠。光刻机根据应用范围分为：前道光刻机、后道光刻机、LED光刻机、面板光刻机。通常情况下我们把面板光刻机叫做曝光机。应用在LED产品上的光刻机不需要太高的精密度，价格也比较低，通常不足上千万。这类的光刻机绝称不上是皇冠上的明珠。只有ASML制造的EUV光刻机，才称得上是皇冠上的明珠。
目前前道光刻机市场主要有三家：ASML、尼康、佳能。工艺上，ASML
